本所研制的立体足迹激光扫描采集分析系统(现场立体足迹数字化综合处理系统)获得了国家颁发的发明专利:ZJ 200710087247.1;平面足迹辅助分析检验系统(基于图像处理技术的平面足迹检验分析系统及其方法)也被国家知识产权局正式授予了发明专利:ZL 201110111799.8。侵犯专利是违法行为,非法的生产、销售、使用都将受到法律的追究,除仿制非法公司外,经销商也会受到起诉和索赔,在北京的诉讼活动中,本专利得到了一审和二审的法院旗帜鲜明的保护,个别不法公司遭到了连续的败诉。
通过走访河北青县公安局了解到,侵权公司仿制的产品功能简单,存在严重的致命缺陷,属于粗制滥造。用用户的的话说,如果没有我们的产品,宁可把上级批下来的专项资再退回财政。
我们将继续紧盯市场,及时发现不法之徒的侵权行为,紧握法律武器,给予胆敢试法者迎头痛击和经济索赔。
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